Extreme ultraviolet lithography
Автор: Frederic P. Miller
Издательство:
Год издания: 2010
Страниц: 68
ISBN: 9786132732125
Аннотация:
High Quality Content by WIKIPEDIA articles! Extreme ultraviolet lithography (also known as EUV or EUVL) is a next-generation lithography technology using an EUV wavelength, currently expected to be 13.5 nm.
Посмотреть в магазинах:
Другие сервисы поиска:
Книгу "Extreme ultraviolet lithography" (Frederic P. Miller) можно также попробовать поискать и скачать в бесплатных электронных библиотеках, однако мы рекомендуем пользоваться только официальными сервисами, имеющими соглашения с авторами и издательствами.
|
| (c) KBD.RU |