Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Автор: Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман
Издательство: Техносфера
Год издания: 2010
Страниц: 544
ISBN: 9785948362229
Аннотация:
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное
Посмотреть в магазинах:
Другие сервисы поиска:
Книгу "Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии" (Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман) можно также попробовать поискать и скачать в бесплатных электронных библиотеках, однако мы рекомендуем пользоваться только официальными сервисами, имеющими соглашения с авторами и издательствами.
|
| (c) KBD.RU |